N Type 156.75mm Plaquette solaire monocristalline

N Type 156.75mm Plaquette solaire monocristalline

Le fait que les technologies cellulaires présentant les rendements les plus élevés dans la production industrielle soient basées sur une plaquette Cz-Si de type n est une démonstration frappante de la raison pour laquelle les plaquettes de type n sont le matériau le plus approprié pour les cellules solaires à haut rendement. Pour entrer plus dans les détails, il y a quelques raisons physiques à la supériorité du type n par rapport au type p.
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Description
Paramètres techniques

CZ silicon crystal growth


Monocrystalline wafer 1


Le fait que les technologies cellulaires présentant les rendements les plus élevés dans la production industrielle sont basées sur une plaquette Cz-Si de type N est une démonstration frappante de la raison pour laquelle les plaquettes de type n sont le matériau le plus approprié pour les cellules solaires à haut rendement. En entrant plus dans les détails, il y a quelques raisons physiques à la supériorité du type N par rapport au type P, les plus importantes sont:

  • en raison de l’absence de bore, il n’y a pas de dégradation induite par la lumière (LID) se produisant dans les plaquettes de Si de type p, en raison de complexes bore-oxygène

  • comme le type N Si est moins sensible aux impuretés métalliques proéminentes, en général, les longueurs de diffusion des porteurs minoritaires dans le type n Cz-Si sont significativement plus élevées par rapport au type p Cz-Si

  • L’A de type Si est moins sujet à la dégradation lors de processus à haute température tels que la diffusion B.

 

 

1      Propriétés des matériaux

 

propriété

spécification

Méthode d’inspection

Méthode de croissance

Cz


cristallinité

Monocristallin

Techniques de gravure préférentiellesASTM F47-88

Type de conductivité

Type N

Napson EC-80TPN

Dopant

phosphore

-

Concentration en oxygène[Oi]

8E+17 at/cm3

FTIR (ASTM F121-83)

Concentration en carbone[Cs]

5E+16 at/cm3

FTIR (ASTM F123-91)

Densité de la fosse de gravure (densité de dislocation)

500 cm-3

Techniques de gravure préférentiellesASTM F47-88

Orientation de la surface

<100>±3°

Méthode de diffraction des rayons X (ASTM F26-1987)

Orientation des côtés pseudo carrés

<010>,<001>±3°

Méthode de diffraction des rayons X (ASTM F26-1987)

 

2      Propriétés électriques

 

propriété

spécification

Méthode d’inspection

résistivité

0,2-2,0 Ω.cm

0,5 à 3,5 Ω.cm

1,0-7,0 Ω,cm

1,5 à 12 Ω,cm

Autre résistivité

Système d’inspection de plaquettes

MCLT (durée de vie des transporteurs minoritaires)

1000μs(Résistivité > 1Ωcm)
 
500μs(Résistivité< 1="">Ωcm)

Sinton transitoire

 

3      géométrie

 

propriété

spécification

Méthode d’inspection

géométrie

Pseudo carré


Forme du bord biseau

Rond


Taille de la plaquette

(Longueur latérale*longueur latérale * diamètre

M0 : 156*156*φ210 mm

M1 : 156,75*156,75*φ205 mm

M2 : 156,75*156,75*φ210 mm

Système d’inspection de plaquettes

Angle entre les côtés adjacents

90±3°

Système d’inspection de plaquettes


image




étiquette à chaud: N Type 156.75mm Plaquette solaire monocristalline, Chine, fournisseurs, fabricants, usine, fabriqué en Chine

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