Substrat SiC de type 4H N-

Substrat SiC de type 4H N-

Les substrats SiC de type N- sont conçus pour la croissance homoépitaxiale dans la fabrication avancée de semi-conducteurs de puissance. Avec des performances électriques et thermiques supérieures, ce substrat SiC-hautes performances convient aux applications à haute-puissance dans les véhicules électriques, les systèmes photovoltaïques, l'énergie éolienne et d'autres nouvelles technologies énergétiques. La gamme de produits comprend des tranches SiC de 6-pouces et de 8 pouces pour la production en volume et l'approvisionnement mondial, avec une capacité de production de substrats de 12 pouces disponible pour les applications de semi-conducteurs de puissance de nouvelle génération.
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Description
Paramètres techniques

 

Présentation des produits

 

 

Les substrats SiC de type N- sont conçus pour la croissance homoépitaxiale dans la fabrication avancée de semi-conducteurs de puissance. Avec des performances électriques et thermiques supérieures, cette haute-performanceSubstrat SiCconvient aux applications à haute-puissance dans les véhicules électriques, les systèmes photovoltaïques, l'énergie éolienne et d'autres nouvelles technologies énergétiques.

 

La gamme de produits comprend des modèles de 6 et 8 poucesplaquettes SiCpour la production en volume et l'approvisionnement mondial, avec une capacité de production de substrats de 12- pouces disponible pour les applications de semi-conducteurs de puissance de nouvelle génération.

 

 

 

Caractéristiques

 

 

 

product-1-1

 

6 pouces
Diamètre 150,0 mm+0 mm/-0,2 mm
Orientation des surfaces 4 degrés vers<1120>±0,5 degré
Longueur à plat primaire 47,5 mm ±1,5 mm
Orientation plate principale <1120>±1,0 degré
Orientation de l'encoche /
Angle d'encoche /
Profondeur d'encoche /
Appartement Secondaire N/A
Épaisseur 350,0 um ± 25,0 um
Polytype 4H
Taper n-type

 

 

 

 

 

8 pouces
Diamètre 200,0 mm+0 mm/-0,5 mm
Orientation des surfaces 4 degrés vers<1120>±0,5 degré
Longueur à plat primaire Entailler
Orientation plate principale /
Orientation de l'encoche <1100>±1,0 degré
Angle d'encoche 90 degrés +5 degrés /-1 degrés
Profondeur d'encoche 1,0 mm+0.25 mm/-0 mm
Appartement Secondaire N/A
Épaisseur 500,0 um ± 25,0 um
Polytype 4H
Taper n-type

 

 

product-1-1

 

 

 

product-1-1
12 pouces
Diamètre 300,0 mm+0 mm/-0,5 mm
Orientation des surfaces 4 degrés vers<1120>±0,5 degré
Longueur à plat primaire Entailler
Orientation plate principale /
Orientation de l'encoche <1100>±5,0 degrés
Angle d'encoche 90 degrés +5 degrés /-1 degrés
Profondeur d'encoche 1,0 mm+0.25 mm/-0 mm
Appartement Secondaire N/A
Épaisseur 750,0 um ± 25,0 um
Polytype 4H
Taper n-type

 

 

Certificat

 

 

 

1







 

étiquette à chaud: Substrat sic de type 4h n-, Chine, fournisseurs, fabricants, usine, fabriqué en Chine

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