Spécification de plaquette de silicium monocristalline de type N

Spécification de plaquette de silicium monocristalline de type N

La plaquette de silicium monocristalline M2 de type N est dotée d'une conception quasi-carré 156,75 × 156,75 mm avec des coins arrondis, équilibrant la compatibilité avec des dispositions de modules standard et une capture de lumière optimisée. Produit à l'aide de la méthode CZ et du dopage du phosphore, il offre une pureté matériale élevée,<100>orientation et faible densité de dislocation (inférieure ou égale à 500 cm⁻²). Avec la conductivité de type N, une large plage de résistivité (0,2–12 Ω · cm) et une durée de vie porteuse à grande minorité (supérieure à 1000 µs), il prend en charge les technologies cellulaires à haute efficacité telles que TopCon et HJT. La plaquette M2 reste un format éprouvé et fiable pour des performances stables dans les applications PV traditionnelles.
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Description
Paramètres techniques

CZ silicon crystal growth

 

p-type-182mm-monocrystalline-solar-wafer12427330843

 

La plaquette de silicium monocristalline M2 de type N est dotée d'une conception quasi-carré 156,75 × 156,75 mm avec des coins arrondis, équilibrant la compatibilité avec des dispositions de modules standard et une capture de lumière optimisée. Produit à l'aide de la méthode CZ et du dopage du phosphore, il offre une pureté matériale élevée,<100>orientation et faible densité de dislocation (inférieure ou égale à 500 cm⁻²). Avec la conductivité de type N, une large plage de résistivité (0,2–12 Ω · cm) et une durée de vie porteuse à grande minorité (supérieure à 1000 µs), il prend en charge les technologies cellulaires à haute efficacité telles que TopCon et HJT. La plaquette M2 reste un format éprouvé et fiable pour des performances stables dans les applications PV traditionnelles.

 

1. Propriétés des matériaux

 

Propriété

Spécification

Méthode d'inspection

Méthode de croissance

CZ

 

Cristallinité

Monocristallin

Techniques de gravure préférentielles(ASTM F47-88)

Type de conductivité

Type n

Napson EC-80TPN

Dopant

Phosphore

-

Concentration d'oxygène [OI]

Moins ou égal à8E +17 à / cm3

FTIR (ASTM F121-83)

Concentration de carbone [CS]

Moins ou égal à5E +16 at / cm3

FTIR (ASTM F123-91)

Densité de fosse de gravure (densité de dislocation)

Moins ou égal à500 cm-2

Techniques de gravure préférentielles(ASTM F47-88)

Orientation de surface

<100>± 3 degrés

Méthode de diffraction des rayons X (ASTM F26-1987)

Orientation des côtés pseudo-carrés

<010>,<001>± 3 degrés

Méthode de diffraction des rayons X (ASTM F26-1987)

 

2. Propriétés électriques

 

Propriété

Spécification

Méthode d'inspection

Résistivité

0,2-2,0 Ω.cm
0,5-3,5 Ω.cm
1.0-7.0 Ω.cm
1,5-12 Ω.cm
Résistivité 4-sondes
mesure

MCLT (Lifetime de transporteur minoritaire)

Supérieur ou égal à 1000 µs (résistivité > 1,0 Ω.cm)
Supérieur ou égal à 500 µs (résistivité < 1,0 Ω.cm
Sinton BCT-400
Transitoire
(Avec niveau d'injection: 5e14 cm-3)

 

3. géométrie

 

Propriété

Spécification

Méthode d'inspection

Géométrie

quasi carré
Étrier Vernier
Diamètre
210 ± 0,25 mm
Étrier Vernier
Plat à plat
156,75 ± 0,25 mm
Étrier Vernier
Longueur du coin
8,5 ± 0,5 mm
Carré / souverain
Angularité

90 degrés ± 0,2 degrés

Règle d'angle
Forme du coin
Forme ronde
Inspection visuelle
Perpendiculaire
Moins ou égal à 0,8 mm
 

TTV (variation d'épaisseur totale)

Moins ou égal à 27 µm

système d'inspection des plaquettes

 

image 31

 

4.Propriétés de surface

 

Propriété

Spécification

Méthode d'inspection

Qualit de surface
Tacher, huile, gratter, fissurer, fosse, bosse,
Pinhole et Twin Defet ne sont pas
autorisé
Inspection visuelle
Ébrécher
La puce de surface n'est pas autorisée;
Arris: les puces sont inconsnuées:
Moins de 10 sur l'Arris, dia inférieur ou égal à 0,3 mm;
Règle
Roughne de surface
Surface plane: PR inférieure ou égale à 0,6UM;
Surface cambre: ra inférieure ou égale à 1,0UM
Mémoire de rugosité de surface

 

 

 

 

étiquette à chaud: N-Type M2 Spécification de la plaquette de silicium monocristalline, Chine, fournisseurs, fabricants, usine, fabriquée en Chine

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